GRM201 Mehrstufige Trockenvakuumpumpe mit Wurzeln 200 m3/h Ölfreie kompakte Vakuumpumpe für Halbleiterreinigung

GRM201 Mehrstufige Wurzeltrockenvakuumpumpe 200 m3/h Kompakte Ölfreie Lösung

Die GRM201 ist eine kompakte mehrstufige Trockenvakuumpumpe mit Wurzeln, die eine Pumpgeschwindigkeit von 200 m3/h bei einem ultraleisen Betrieb bei ≤ 63 dB (((A) liefert.Das Ölfreie, mehrstufige Wurzeldesign macht es ideal für saubere und mittlere Halbleiterprozesse, Photovoltaik-Produktion und Lithium-Batterie-Produktionslinien, die ein kontaminierungsfreies Vakuum mit minimalem Fußabdruck erfordern.

Wesentliche Merkmale

• Mehrstufige Wurzelentwicklung:Niedriger Stromverbrauch bei hoher Pumpeffizienz
• Ultra-Stille Operation:≤ 63 dB (A) die leiseste in ihrer Klasse
• Ölfreier Mechanismus:Pumpkammer enthält absolut kein Öl für saubere Prozesskompatibilität
• mit einer Leistung von mehr als 100 W und1.9 kW mit höherer Energieeffizienz
• Überlegene Staubbehandlung:Erweiterte Rotorstruktur für verstärkte Abgaspartikel
• Kompakter Fußabdruck:Nur 741 * 344 * 466 mm, 150 kg
• Staub- und Dampfverträglichkeit:Unempfindlich gegenüber Verarbeitungspflanzen und Feuchtigkeit
• Vollständiger Schutz:Umfassende Sicherheitsvorrichtungen mit Anpassungsfähigkeit
• Intelligente Steuerung:I/O und RS485 (Modbus-Protokoll) für die Fernüberwachung
• Dreifachversiegelung:Lippendichtung + Labyrinthdichtung + Stickstoffreinigung für garantiertes ölfreies Vakuum

Technische Spezifikation

Anwendungen

• Halbleiterreinigungsprozesse: ALD, PECVD, MOCVD, SACVD, RTP, HDP-CVD
• Photovoltaik: Kristallwachstumsöfen, Herstellung von Solarzellen
• Lithiumbatterie: Vakuumtrocknung der Zelle, Elektrolytfüllung, Entgasung
• Forschungs- und Entwicklungslabore: Universitäts- und Industrieforschung Vakuumsysteme